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  • 檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "拋光墊".ckeyword (精準) and year="107"


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    多顆鑽石修整軌跡於軟韌性聚氨酯拋光墊之模擬分析研究
    • 機械工程系 /107/ 碩士
    • 研究生: 王澤源 指導教授: 陳炤彰
    • 化學機械平坦化/拋光(Chemical Mechanical Planarization/Polishing, CMP)製程在半導體製程中對於積體電路的製造品質有著舉足輕重的影響,將鑽石修整技術應用…
    • 點閱:208下載:1

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    銅化學機械平坦化之軟拋光墊性能指標分析研究
    • 機械工程系 /107/ 碩士
    • 研究生: 蕭百成 指導教授: 陳炤彰
    • 隨著半導體元件金屬導線製程不斷微細化追求更高解析度的技術。化學機械拋光平坦化(Chemical Mechanical Polishing/Planarization, CMP)不斷面臨許多挑戰。CM…
    • 點閱:223下載:2
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